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從矽到碳化矽過渡,碳化矽Cascode JFET 為何能成為破局者?

2025-3-26 08:36| 发布者: 闪电| 查看: 1| 评论: 0

摘要: 電力電子器件高度依賴於矽(Si)、碳化矽(SiC)和氮化鎵高電子遷移率電晶體(GaN HEMT)等半導體材料。雖然矽一直是傳統的選擇,但碳化矽器件憑藉其優異的性能與可靠性而越來越受歡迎。相較於矽,碳化矽具備多項技 ...

電力電子器件高度依賴於矽(Si)、碳化矽(SiC)和氮化鎵高電子遷移率電晶體(GaN HEMT)等半導體材料。雖然矽一直是傳統的選擇,但碳化矽器件憑藉其優異的性能與可靠性而越來越受歡迎。相較於矽,碳化矽具備多項技術優勢(圖1),這使其在電動汽車、數據中心,以及直流快充、儲能系統和光伏逆變器等能源基礎設施領域嶄露頭角,成為眾多應用中的新興首選技術。

圖1:矽器件(Si)與碳化矽(SiC)器件的比較

                                                                                                             圖1:矽器件(Si)與碳化矽(SiC)器件的比較
什麼是碳化矽Cascode JFET技術?

眾多終端產品製造商已選擇碳化矽技術替代傳統矽技術,基於雙極結型電晶體(BJT)、結型場效應電晶體(JFET)、金屬氧化物半導體場效應電晶體(MOSFET)和絕緣柵雙極電晶體(IGBT)等器件開發電源系統。這些器件因各自特性(優缺點不同)而被應用於不同場景。

然而,安森美的EliteSiC 共源共柵結型場效應電晶體(Cascode JFET)器件(圖2)將這一技術推向了新高度。該器件基於獨特的"共源共柵(Cascode)"電路配置——將常開型碳化矽JFET器件與矽MOSFET共同封裝,形成一個集成化的常閉型碳化矽FET器件。我們的碳化矽Cascode JFET能夠輕鬆、靈活地替代IGBT、超結MOSFET以及碳化矽MOSFET等任何器件類型(圖3)。

在本文中,我們將深入探討安森美EliteSiC Cascode JFET相較於同類碳化矽MOSFET的技術優勢。


                              圖 2:安森美碳化矽 Cascode JFET 器件框圖

碳化矽相較於矽的技術優勢

與矽器件相比,碳化矽Cascode JFET具備多項優勢。碳化矽作為寬禁帶材料,具有更高的擊穿電壓特性,這意味著其器件可採用更薄的結構支持更高的電壓。此外,碳化矽相較於矽的其他優勢還包括:

  • 對於給定的電壓與電阻等級,碳化矽可實現更高的工作頻率,從而縮小元器件尺寸,顯著降低系統整體尺寸與成本。

  • 在較高電壓等級(1200V 或更高)應用中,碳化矽可以較低功率損耗實現高頻開關。而矽器件在此電壓範圍內幾乎無法勝任。

  • 在任何給定的封裝中,與矽相比,碳化矽器件具備更低的導通電阻(RDS(ON))和開關損耗。

  • 在與矽器件相同的設計中,碳化矽能提供更高的效率和更出色的散熱性能,甚至更高的系統額定功率。

碳化矽Cascode JFET:無縫升級替代矽基方案,卓越性能全面釋放

這些優勢也體現在安森美 EliteSiC Cascode JFET 的性能中,這是一種更新且功能更強大的器件,針對多種功率應用進行了優化。

矽基柵極驅動器兼容:實現向碳化矽的無縫過渡

首先,碳化矽Cascode JFET 的結構允許使用標準矽基柵極驅動器。這簡化了從矽基到碳化矽設計的過渡,提供了更大的設計靈活性。它們與各種類型的柵極驅動器兼容,包括為 IGBT、矽超結 MOSFET 和 碳化矽MOSFET 設計的驅動器。



                                    圖3:按電壓分類的功率半導體器件

其他優勢

  • 在給定封裝中,擁有業內領先的漏源導通電阻RDS(ON),可最大程度地提高系統效率。

  • 更低的電容允許更快的開關速度,因此可以實現更高的工作頻率;這進一步減小了如電感器和電容器等大體積無源元件的尺寸。

  • 與傳統應用於這一細分領域的矽基IGBT相比,碳化矽Cascode JFET在更高電壓等級(1200V或以上)下能夠實現更高的工作頻率,而矽基IGBT通常速度較慢,僅能在較低頻率下使用,因此開關損耗較高。

  • 安森美EliteSiC Cascode JFET器件在給定RDS(ON)     的條件下,實現更小的裸片尺寸,並減輕了碳化矽 MOSFET常見的柵極氧化層可靠性問題。

SiC MOSFET vs. 安森美SiC Cascode JFET:深入對比

讓我們花一點時間來更深入地了解SiC MOSFET 與 安森美SiC JFET 技術之間的差異。從下面的圖 3 中我們可以看到,SiC MOSFET 技術不同於安森美的集成式SiC Cascode JFET——這是精心設計的結果。安森美設計的SiC JFET去掉了碳化矽MOSFET 的柵極氧化層,這不僅消除了溝道電阻,還讓裸片尺寸更為緊湊。

安森美碳化矽 JFET 較小的裸片尺寸成為其差異化優勢的一個關鍵所在,"RDS(ON)x A"(RdsA)品質因數 (FOM) 得以最佳體現,如圖 4 所示。這意味著對於給定的晶片尺寸,SiC JFET 具有更低的導通電阻額定值,或者換言之,在相同的 RDS(ON)下,安森美SiC JFET 的裸片尺寸更小。安森美在 RdsA FOM 方面的卓越表現樹立了行業領先地位,體現在以相對較小的行業標準封裝(如 TOLL 和 D2PAK)提供的超低額定電阻產品。


圖 4:碳化矽MOSFET 與安森美Cascode JFET 的比較
                             圖 4:碳化矽MOSFET 與安森美Cascode JFET 的比較

與SiC MOSFET 相比,EliteSiC Cascode JFET 具有更低的輸出電容 Coss。輸出電容較低的器件在低負載電流下開關速度更快,電容充電延遲時間更短。這意味著,由於減少了對電感器和電容器等大體積無源元件的需求,現在可以製造出更小、更輕、成本更低且功率密度更高的終端設備。

圖 5:安森美碳化矽Cascode JFET 與碳化矽 MOSFET 的競爭產品對比

         圖 5:安森美碳化矽Cascode JFET 與碳化矽 MOSFET 的競爭產品對比

以下是關於SiC MOSFET的其他挑戰:

  • 碳化矽MOS 溝道電阻高,導致電子遷移率較低。

  • Vth在柵極偏置較高的情況下會發生漂移,這意味著柵極到源極的電壓驅動範圍受到限制。

  • 體二極體具有較高的拐點電壓,因此需要同步整流。

 

然而,使用安森美的SiC JFET,上述缺陷得以根本解決,因為:

  • SiC JFET 結構的器件上摒棄 MOS(金屬氧化物)結構,因此器件更加可靠。

  • 在相同晶片面積下,漏極至源極電阻更低。

  • 電容更低,這意味著更快的開關轉換和更高的頻率。

為什麼選擇安森美EliteSiC Cascode JFET?

儘管市場上可供選擇的SiC功率半導體種類繁多,但在某些特定應用中,一些器件的表現確實比其他器件更為出色。安森美的集成式SiCCascode JFET便是其中的佼佼者,因其低 RDS(ON)、低輸出電容和高可靠性等獨特優勢,能夠提供卓越的性能。

此外,碳化矽 Cascode JFET架構使用標準矽基柵極驅動器,簡化了從矽到碳化矽的過渡過程,可在現有設計中實施。因此,它為從矽到碳化矽的過渡提供了靈活性--實施簡單,同時得益於SiC技術而提供卓越的性能。

這些優點幫助安森美的SiC Cascode JFET 技術在其他技術無法企及的領域大放異彩。碳化矽JFET 的增強性能使其在用於人工智慧數據中心、儲能和直流快充等 AC-DC 電源單元中實現更高的效率。 

隨著對更高功率密度和更緊湊外形需求的增加,安森美SiC Cascode JFET 能夠實現更小、更輕和更低成本的終端設備。由於減少了對電感器和電容器等大體積無源元件的需求,有助於實現更高的功率密度。


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