1.结构
结型场效应管的基本结构如图1.4.1所示。它是在一块硅片,例如N型硅的两侧制作出两个PN结,用导线连在一起称为栅极,用G(Gate)表示。在中间的N型硅片的上下两端各制作一个电极,一个称为漏极,用D(Drain)表示;另一个称为源极,用S(Source)表示。
图1.4.1 结型场效应管结构示意图
2.工作原理
场效应管加上电源时的情况如图1.4.2所示。
图1.4.2 结型场效应管工作原理示意图
在栅极和源极之间加上一个反向电压VGG,使栅源之间的PN结反偏,使栅源之间的PN结宽度受uGS的控制。uGS越负,PN结越宽,中间N型硅的部分就越窄。如果在漏极和源极之间加一个电压,就会有漏极电流iD流通,漏极源极之间N型半导体的通道称为沟道。uGS越负,沟道越窄,沟道电阻越大,反之沟道越宽,沟道电阻小。沟道电阻小时,iD大;沟道电阻大时,iD小。于是uGS会对iD产生控制作用,这是输入电压对输出电流的控制,反映出场效应管的工作原理上与双极型三极管的不同。由于结型场效应管工作时,栅源之间是反偏的,栅极电流十分微小,也就是说结型场效应管的输入电阻比较大,所以结型场效应管一般不允许工作在正偏下。
图1.4.2的场效应管的沟道是N型半导体,导电的载流子是电子,这种结型场效应管是N沟道场效应管。如果中间的半导体是P沟道的,也可以制作成场效应管,那导电的载流子是空穴,是P沟道场效应管。