沟道穿通效应

　　沟道穿通效应（Channel punchthrough effect ）就是场效应晶体管的源结与漏结的耗尽区相连通的一种现象。这种效应是在小尺寸场效应晶体管中有可能发生的一种效应，因此也往往就是限制MOSFET尺寸缩小的一种重要的因素。这是VLSI中很值得重视的一个问题。 　　沟道穿通效应的影响：当沟道一穿通，就使源-漏间的势垒显著降低，则从源往沟道即注入大量载流子，并漂移通过源-漏间的空间电荷区、形成一股很大的电流；此电流的大小将受到空间电荷的限制，是所谓空间电荷限制电流（与源漏电压的平方成正比，与沟道长度的立方成反比）。这种空间电荷限制电流是与栅压控制的沟道电流相并联的，因此沟道穿通将使得通过器件的总电流大大增加；并且在沟道穿通情况下, 即使栅电压低于阈值电压，源-漏间也会有电流通过。