版图设计流程及设计方法

    6．版图设计规则的运用及理解：

    1）P阱之间间距20um；Pwell　to　pwell　spacing　=20um；

    2）P阱对有源区的最小覆盖10um；p-well　surround　active　=10um；

    3）有源区最小宽度10um；Active　minium　width　=10um；

    4）有源区最小间距10um；Active　to　Active　Spacing=10um；

    5）多晶硅条最小宽度5　um；Poly　minum　width　=5　um；

    6）多晶硅条最小间距5　um；poly　to　poly　spacing=5　um；

    7）离子注入区对有源区最小覆盖10　um；p-select　surround　active=10　um，n-select　surround　active　=10um；

    8）铝引线孔7.5*7.5　um*um；Metal1　Contact　Exact　Size　=7.5um；

    9）铝条最小宽度10um；Metal1　Minimum　Width　=10um；

    10）铝条间距最小10um；Metal1　to　Metal1　Spacing=10um；

    11）铝条对铝引线孔最小覆盖2.5um；Metal1　surround　Contact=2.5um；