失效机制及版图设计技巧

 1．干法腐蚀

    在潮湿环境中，暴露于离子污染物的铝金属系统会被腐蚀。只需要微量的水就可以进行这种所谓的干法腐蚀。

    影响：水本身不会腐蚀铝，但许多溶于水的离子物质可形成腐蚀性溶液。

    防护措施：在保护层上采取一些措施可以降低影响。

    2．可动离子沾污

    碱金属即使在室温下仍然可以在二氧化硅中自由移动，其中，钠离子是最常见的一种。

    影响：可动离子玷污会引起参数漂移，最明显的是MOS晶体管的阀值电压。下图中，图A显示了制造过程中被钠离子玷污的NMOS晶体管的栅氧化层。图B显示了在正的栅偏压下工作了一段时间的同样的栅介质。

图 偏压下可动离子的运动：

    （A）离子随机分布在氧化层内；（B）正栅压下的移动