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NMOS晶体管概述

2015-4-22 12:29| 发布者: 闪电| 查看: 114| 评论: 0

摘要: 知识点一 NMOS晶体管概述 1.NMOS晶体管的简化三端电路模型: NMOS晶体管在栅极和晶体管的其余部分之间存在绝缘层,没有直流电流从栅极流过。电容CGS和CGD分别代表由栅介质产生的栅源电容和栅漏电容。电容符号上绘 ...


    2.通过对沟道的注入可以改变MOS晶体管的阈值电压。P型注入使阈值电压正向移动,N型注入使阈值电压负向移动。

    3.假如初始掺杂浓度选得合适的话,单独使用硼注入就可以调整两种类型晶体管的阈值电压。这种硼注入成为阈值调整注入,或者简称为阈值调整。进行了这种注入的晶体管称为调整晶体管,而那些没有进行注入的晶体管称为天然的或自然的晶体管。

    4.许多工艺都提供自然晶体管作为一个工艺选项,该选项需要一层单独的掩膜,正确的名称是阈值调整注入掩膜,但是更做的被称为固有Vt掩膜。与其相关的编码层也有多个名称,本书中称为NatVT。

    5.NatVT的图形应该略微与沟道区交叠以防止对版误差和横向扩散。

 1.按比例缩小定律分为两大类,在这两类中都假定宽度和长度要乘以一个比例因子S。

表 选择性栅收缩的按比例缩小定律

    2.随着晶体管尺寸越来越小,避免热载流子的产生和穿通击穿变得十分困难。

    3.晶体管尺寸的缩小实际上改善了它的性能。减小尺寸使得寄生电容变小,而开关速度变快。

    4.小尺寸晶体管不仅开关速度变快,而且翻转时的功耗降低。



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