2)多晶硅-多晶硅电容通常制作在场氧化层上。 3)选择多晶硅-多晶硅电容器介质时需要考虑很多方面的因素。 4)只要两极板都是重掺杂的,多晶硅-多晶硅电容的电压调制效应就相对较小。 5)多晶硅-多晶硅电容的上下级板并不能完全互换。上级板的寄生电容通常小于下级板。 4.堆叠电容 1)下图为一金属-金属-多晶硅堆叠电容。第一层金属位于其他两个电极之间,所以几乎没有寄生电容;多晶硅/第二层金属电极有相对较大的寄生电容,因为多晶硅极板会通过多层氧化物(MLO)与衬底耦合。
图 金属-金属-多晶硅堆叠电容
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