设计者通常复制匹配电容形成虚拟(衬底)电容,人们认为这样呢可以实现更好的匹配。虚拟(陪衬)器件的尺寸实际上对刻蚀速率没有什么影响。只要使用金属板覆盖陈列阻止边缘电场,就没有必要采用同样尺寸的虚拟(陪衬)电容。 图 采用接地的虚拟(陪衬)电容的匹配电容阵列。 为了清楚起见,将覆盖在阵列上的第二层金属屏蔽层省略
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