无源器件电阻及其版图

    4）版图移位

    衬底表面的不连续并不总能完全的复制到最终的硅表面。在外延生长过程中，这些不连续常常横向移位，这种效应称为版图移位。优势这些不连续的各边的偏移量不同，从而引起版图失真。表面不连续在外延层生长中偶尔会完全消失，从而引起版图冲失。版图移位、失真、冲失是同一个潜在现象的不同表现。

    下图为在包含NBL的同一个隔离岛内的4个匹配电阻。由于该工艺版图向右移位，因此NBL阴影和最左侧的电阻相交。避免出现这种相交最简单的办法就是把NBL从元件的下方移走。这样当然消除了NBL阴影，但也增加了不必要的隔离岛电阻，使电路更容易受栅锁效应的影响。更好的方法需要知道版图的移位的方向。

图 版图显示了NBL阴影和最左边基区电阻的交叉