2)采用两对导线:一对用来传输通过电阻的电流,另一对用来检测电阻上的压降。电流导线上的压降不会改变检测导线上的电压变化,并且由于很少或没有电流流过检测导线,因此其上的压降几乎为零,这种使用独立的载流线和检压线的方法称为开尔文连接(Kelvin connection)。 3)图A,电阻由单层金属构成,检测点是连接电阻边缘的简单抽头;图B使用第二层金属作为电阻的接头。检测点应该使用上层金属以保证电阻的等平面性。 4)金属电阻的典型值为50mΩ~5Ω.。这个范围电阻用于构造电流敏感电路和大功率双极型晶体管的镇流。 5)金属电阻可以布成一条直线,也可以布成折叠状。且电阻应位于场氧化层的上面,以避免氧化层台阶引起的金属方块电阻的变化。 6)在多层金属工艺中,可以用任意金属层制作电阻。上层金属导线可以布在下层金属电阻之上,但下层金属或硅导线不能布在上层金属电阻的下面,因为它们会造成非等平面性。 7)金属电阻阻值主要取决于金属层厚度,其次取决于金属组分。
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