2)对于高阻材料,被夹着的外延层很容易受到严重的电压调制效应的影响。一旦电阻夹断,电流将不再增加,电阻将不受偏压影响。夹断电压与外延厚度,外延掺杂浓度和基区结深有关。 3)因为外延埋层器件的电压调制效应非常严重,它一般很少用作普通电阻使用,而是用在启动电路中,起限流的作用。 4)外延埋层电阻的方块电阻的变化很大(不计入电压调制)因此绘制其版图时无需精度的考虑。 5)在BiCMOS工艺中,可以使用基区和N阱间的夹层做埋层电阻。 6)在介质隔离的工艺中,可以制作类似外延埋层电阻那样的结构,它是由轻掺杂的N型硅条且在其上进行P型注入的隔离岛构成的。 6.金属电阻 1)标准双极工艺金属厚度大约10~15kA,方块电阻一般为20~30 mΩ/□。CMOS工艺较小的特征尺寸规定了金属厚度小于10 kA,对应的方块电阻也就相对大些。下图给出了金属电阻开尔文连接的两种形式。 图 两种形式的开尔文连接金属电阻:(A)单层金属布局;(B)双层金属布局
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